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书       名 :
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I  S  B  N:
文献来源:
出版时间 :
集成光学器件导论
0.00    
图书来源: 浙江图书馆(由图书馆配书)
  • 配送范围:
    全国(除港澳台地区)
  • ISBN:
    9787111280101
  • 作      者:
    陈福深,杨拥军,孙豹等编著
  • 出 版 社 :
    机械工业出版社
  • 出版日期:
    2010
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内容介绍
    《集成光学器件导论》是关于集成光学器件理论的学术专著,全面、系统、深入地阐述了集成光学器件的理论与技术。《集成光学器件导论》内容不仅对集成光学器件的原理和结构进行了分析,还在仿真、材料、制作和应用等方面进行了一系列的介绍和研究。<br>    《集成光学器件导论》共分为10章,其中包括集成光波导理论、集成电光调制器、LiNbO3电光调制器电极静态分析、光开关、集成光波导放大器、集成光波导电场传感器、有机聚合物光学器件、集成光学器件的应用、光束传输法和LiNbO3集成光学器件的制作技术等。<br>    《集成光学器件导论》适合于从事集成光学、光纤通信、激光技术和光信息处理的科技人员及高等院校相关专业的教师、研究生和高年级本科生作为教材或参考书。
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精彩书摘
    2.S型弯曲波导热光聚合物VOA<br>    这种可调光衰减器是基于弯曲波导辐射损耗原理,结构如图7.29所示。这种结构的VOA具有功耗低、插入损耗小、串扰低、偏振无关、可达到的衰减大和易于集成等优点。2002年,SeanM.等人根据弯曲波导辐射损耗原理,研制出弯曲波导热光型VOA,通过5mill长的电极作用区,可实现大于40dB的衰减。根据弯曲波导理论,沟道波导弯曲区域的切面上的折射率不是成阶跃型,而可以等效为向外倾斜的斜线,如图7-29所示,当Y增大时,包层的折射率不断增加,甚至比核芯区的更大,电磁场分布也会向折射率增大的方向平移,即偏向Y的正方向,所以产生辐射损耗。<br>    基于弯曲波导辐射损耗原理,利用聚合物材料,通过采用s弯曲波导的热光型VOA结构,如图7-29所示,对波导形状、电极位置的优化设计,实现更小的插入损耗,更低的串扰,并且更易于集成。器件包括一条表面垂直覆盖电极加热器的s形沟道波导。电极未加电时,光通过弯曲波导的损耗非常小。当电极作用时,在波导的垂直方向产生温度梯度,形成相应的折射率梯度,同时由于弯曲波导辐射损耗理论,水平方向上的光线也会发生泄漏。垂直和水平方向两者共同作用的结果使芯区的模式限制减弱,导致光在水平和垂直方向上的同时损耗,实现了VOA的功能。<br>    3.Y分支结构的热光聚合物VOA<br>    这种聚合物VOA由线性Y分支波导和一个光能量分支端口组成,图7-30显示了其结构。对于非对称的分支波导,上臂远远宽于下臂,上臂连接直行波导作为主输出口,而另一个光能量分支端口连接一个弯曲波导,其作用是分出一部分光能量用于监控输出。Y分支中,窄的下臂连接一个S形弯曲波导,是为了增大两分支波导之间的距离。器件工作是基于耦合模原理:当电极没有工作时,输入的光能量大部分耦合入宽的上臂,因此,器件此时衰减量最小;当电极工作时,引起聚合物的热光效应,宽的上臂的有效折射率减小,输入的光能量就逐渐耦合入窄的下臂波导中。通过电能量可以控制光能量的输出,剩余的光能量在S形波导中被衰减,不会耦合到器件的其他部分。监控端口可以直接测量衰减器的输出光能量。而且可以把衰减信息反馈到电极的驱动源里,来保持输出光能量。<br>    ……
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目录
前言<br>第1章 集成光波导理论<br>1.1 平面光波导的射线理论<br>1.1.1 反射截面的相移系数<br>1.1.2 平面介质波导中的传输模式<br>1.1.3 波导损耗<br>1.2 平面波导传输模式的电磁场分析<br>1.2.1 TE波<br>1.2.2 导模携带的功率<br>1.3 三维波导传输模式的理论分析<br>1.3.1 马克帝里(Marcatili)近似法<br>1.3.2 有效折射率法<br>1.4 两种三维波导的理论分析<br>1.4.1 指数型折射率光波导的导模<br>1.4.2 抛物型波导的折射率<br>1.5 波导耦合理论<br>参考文献<br><br>第2章 集成电光调制器<br>2.1 集成电光调制器的理论基础<br>2.1.1 LiNbO3晶体的电光效应<br>2.1.2 相位调制<br>2.1.3 强度调制<br>2.2 集成电光调制器的基本参数<br>2.3 脊形电极结构的有限元法分析<br>2.3.1 全波分析方法<br>2.3.2 准TEM分析<br>2.3.3 数值分析结果<br>2.4 集成电光调制器的性能优化<br>2.4.1 集成电光调制器的仿真结构<br>2.4.2 中心电极宽度的优化<br>2.4.3 电极间距的优化<br>2.4.4 电极高度的优化<br>2.4.5 脊形光波导高度的优化<br>2.4.6 缓冲层厚度的优化<br>2.4.7 脊形集成电光调制器的优化结果<br>参考文献<br><br>第3章 LiNbO3电光调制器电极静态分析<br>3.1 普通共面波导电光调制器的分析与设计<br>3.1.1 特征参量<br>3.1.2 施瓦兹变换<br>3.1.3 部分电容法<br>3.1.4 分布电容的计算过程<br>3.1.5 共面波导的导体损耗<br>3.1.6 计算结果及分析<br>3.2 梯形电极共面波导调制器的分析<br>3.2.1 分布电容的计算过程<br>3.2.2 梯形电极结构的导体损耗<br>3.2.3 计算结果及分析<br>3.3 脊形结构共面波导调制器的分析<br>3.3.1 脊形结构横截面的简化图形<br>3.3.2 分布电容的计算过程<br>3.3.3 脊形结构的导体损耗<br>3.3.4 计算结果及分析<br>3.4 结果分析<br>3.5 有限元法计算电场分布<br>参考文献<br><br>第4章 光开关<br>4.1 光开关概述<br>4.1.1 光开关的应用<br>4.1.2 光开关的分类<br>4.1.3 光开关的主要性能参数<br>4.2 电光效应光开关<br>4.2.1 定向耦合器型光开关<br>4.2.2 干涉型光开关<br>4.2.3 Y分支型光开关<br>4.2.4 SOI波导光开关<br>4.2.5 BOA型光开关<br>4.3 热光效应光开关<br>4.3.1 M-Z干涉型热光开关<br>4.3.2 数字型光开关<br>4.3.3 Y结和X结数字型光开关<br>4.4 磁光效应光开关<br>4.5 声光效应光开关<br>4.6 其他类型光开关<br>4.6.1 机械式光开关<br>4.6.2 微电子机械系统/微光机电系统开关<br>4.6.3 液晶光开关<br>4.6.4 气泡光开关<br>4.6.5 全息光开关<br>4.6.6 液体光栅开关<br>4.6.7 半导体多量子阱超快光开关<br>4.6.8 半导体光放大器门控光开关<br>参考文献<br><br><br>第5章 光波导放大器<br>5.1 光放大器概述<br>5.1.1 半导体光放大器<br>5.1.2 使用非线性效应的放大器<br>5.1.3 掺稀土光纤放大器<br>5.1.4 集成光波导放大器<br>5.1.5 最近的发展<br>5.2 稀土材料<br>5.2.1 稀土材料的发光属性<br>5.2.2 稀土掺杂材料的属性<br>5.2.3 泵浦机制<br>5.3 基底材料及其制备<br>5.3.1 红外波段的材料<br>5.3.2 可见光材料<br>5.3.3 制作技术<br>5.4 掺稀土光波导放大器<br>5.4.1 掺铒氧化铝的粒子数密度<br>5.4.2 放大器设计^<br>5.4.3 增益计算<br>5.4.4 光波导放大器的制作工艺<br>5.4.5 新型结构的光波导放大器<br>参考文献<br><br>第6章 集成光波导电场传感器及其系统<br>6.1 集成光波导电场传感器<br>6.1.1 理论基础<br>6.1.2 基本结构<br>6.1.3 基本参数<br>6.1.4 基本模型<br>6.2 集成光波导电场传感系统<br>6.2.1 基本结构和原理<br>6.2.2 参数描述<br>6.3 分段电极电场传感器及其系统<br>6.3.1 分段电极电场传感器的原理与结构<br>6.3.2 分段电极电场传感器的静电场分析<br>6.3.3 分段电极电场传感器的动态模型<br>6.3.4 分段电极电场传感器构成的传感系统<br>6.3.5 分段电极电场传感系统的测试<br>6.4 全向电场传感系统的原理与结构<br>6.4.1 传统全向天线的原理<br>6.4.2 新型全向电场传感系统的结构<br>参考文献<br><br>第7章 有机聚合物光学器件<br>7.1 光学有机聚合物概述<br>7.2 有机聚合物材料<br>7.2.1 集成电光波导器件对材料的基本要求<br>7.2.2 光通信波段聚合物光波导材料分子的特点<br>7.2.3 聚合物材料的进展<br>7.3 有机聚合物材料的制备<br>7.3.1 有机聚合物的合成<br>7.3.2 薄膜的制备<br>7.4 有机聚合物波导的制作<br>7.4.1 光刻<br>7.4.2 干法刻蚀<br>7.5 有机聚合物集成光学器件<br>7.5.1 有机聚合物电光调制器<br>7.5.2 有机聚合物可调光衰减器<br>7.5.3 有机聚合物光开关<br>参考文献<br><br>第8章 集成光学器件的应用<br>8.1 集成光学模数转换器<br>8.1.1 模数转换器(A/D转换器)<br>8.1.2 数模转换器(D/A转换器)<br>8.2 集成光学卷积器和相关器<br>8.2.1 卷积器<br>8.2.2 相关器<br>8.3 集成光学频谱分析仪<br>8.4 集成逻辑光路<br>8.5 光纤陀螺的基本原理与结构<br>8.5.1 干涉式光纤陀螺(I-FOG)原理<br>8.5.2 光纤陀螺的基本结构<br>8.5.3 光纤陀螺用Y分支调制器设计<br>8.5.4 Y分支调制器的设计版图<br>8.6 集成光波导气体传感器<br>8.6.1 气体传感器的基本原理<br>8.6.2 波导模式的有效折射率法和传输线理论分析<br>8.6.3 气敏有机材料的结构与合成<br>8.6.4 实验结果<br>参考文献<br><br>第9章 光束传输法<br>9.1 电磁场基本方程<br>9.1.1 麦克斯韦方程组<br>9.1.2 二维光波导的TE模方程<br>9.1.3 二维光波导的TM模方程<br>9.1.4 矢量和半矢量波动方程<br>9.2 二维标量FDBPM的基本原理<br>9.2.1 TE模FDBPM格式<br>9.2.2 TM模FDBPM格式<br>9.2.3 二维标量FDBPM格式的稳定性分析<br>9.2.4 透明边界条件与方程求解<br>9.3 三维FDBPM的基本原理<br>9.3.1 三维标量FDBPM的基本格式<br>9.3.2 三维半矢量FDBPM的基本格式<br>9.3.3 三维矢量FDBPM的基本格式<br>9.4 FDBPM仿真光波导举例<br>9.4.1 Y分支波导的仿真<br>9.4.2 M.z型调制器的仿真<br>9.4.3 电光开关的仿真<br>9.4.4 三维Y分支波导的仿真<br>9.5 商用光波导仿真软件<br>参考文献<br><br>第10章 LiNbO3集成光学器件的制作技术<br>10.1 集成光学调制器的制作工艺<br>10.1.1 光刻过程<br>10.1.2 光波导的质子交换制作<br>10.1.3 薄膜沉积技术<br>10.1.4 刻蚀技术<br>10.1.5 基片的研磨与耦合封装<br>10.2 退火质子交换技术<br>10.2.1 光波导质子交换和Ti扩散技术的比较<br>10.2.2 质子交换技术<br>10.2.3 退火技术<br>10.3 Ti扩散技术<br>10.3.1 Ti扩散LiNbO3波导物理机理分析<br>10.3.2 Ti扩散LiNbO3波导工艺及原理<br>10.3.3 Ti扩散IANbO3折射率分布与浓度的关系<br>10.3.4 Ti扩散模式控制与模斑控制<br>10.4 离子交换技术<br>参考文献<br><br>附录<br>附录A FDBPM仿真算法流程图<br>附录B 二维有限差分光束传输法Matlab源程序<br>附录C 二维Y分支光波导有限差分光束传输法Matlab源程序<br>附录D 二维电光开关有限差分光束传输法Matlab源程序<br>附录E 二维M-Z电光调制器有限差分光束传输法Matlab源程序<br>附录F 求解二维光波导有效折射率的Matlab源程序
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