顾长志，1964年6月生于沈阳。1997年于吉林大学获得凝聚态物理专业博士学位。1997-1999年在德国夫琅禾费薄膜与表面工程研究所从事博士后研究，2000年在德国柏林自由大学物理系做高访学者，2004年在日本物质材料国家研究所从事合作研究。1998年被聘为吉林大学教授，2001年至今任中国科学院物理研究所研究员、博士生导师，并任技术部主任、微加工实验室主任。2000年获教育部“跨世纪人才”称号，2001年入选中国科学院“百人计划”。2007年获中国物理学会“胡刚复物理奖”。2008年获得“国家杰出青年基金”。曾主持和承担国家重大和重点项目6项。
　　长期从事纳米材料与纳米结构的可控制备、新奇物性和器件应用方面的研究，获得了一系列研究成果。在Nature子刊、Phys.Rev，Lett.，J.Am.Chem.Soc.，NanoLett.，Adv.Mater.等学术刊物上发表论文200余篇，获发明专利授权20余项，完成国家鉴定（验收）项目5项。

　　《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》简述微纳加工的主要方法及在纳米材料与纳米器件研究中的应用，注重理论与实践的结合，包括光学曝光、电子束曝光、聚焦离子束加工、激光加工、纳米压印、刻蚀技术、薄膜技术、自组装加工，以及微纳加工在纳米材料与器件的电学、光学、磁学等研究领域的应用，重点介绍各种微纳加工方法的产生根源与新发展的趋势，在科学研究中的创新性应用与要注意的问题，以及在多学科领域中对探索科学发现的重要作用。
　　《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》可作为高等学校物理、化学、电子、材料、生物等专业研究生和高年级本科生的参考教材，也可供从事纳米科学与技术等相关领域研究的科技工作者参考。

《纳米科学与技术》丛书序
前言
第1章 光学曝光
1．1 光学曝光系统的基本组成
1．2 光学曝光的基本原理与特征
1．2．1 光学曝光的基本模式与原理
1．2．2 光学曝光的过程
1．2．3 分辨率增强技术
1．3 短波长光学曝光技术
1．3．1 深紫外与真空紫外曝光技术
1．3．2 极紫外曝光技术
1．3．3 X射线曝光技术
1．3．4 LIGA加工技术
1．4 光学曝光加工纳米结构
1．4．1 泊松亮斑纳米曝光技术
1．4．2 表面等离激元纳米曝光技术
1．4．3 基于双层图形技术的纳米加工
1．5 光学曝光加工三维微纳结构
1．5．1 灰度曝光技术
1．5．2 基于欠曝光的三维曝光技术
1．5．3 基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术
参考文献

第2章 电子束曝光技术
2．1 电子束曝光系统组成
2．1．1 电子枪
2．1．2 透镜系统
2．1．3 电子束偏转系统
2．2 电子束曝光系统的分类
2．2．1 扫描模式
2．2．2 束形成
2．3 电子束抗蚀剂
2．3．1 电子束抗蚀剂的性能指标
2．3．2 电子束抗蚀剂制作图形工艺
2．3．3 常用电子束抗蚀剂及其工艺过程
2．3．4 特殊的显影工艺
2．3．5 多层抗蚀剂工艺
2．3．6 理想抗蚀剂剖面的加工
2．4 电子束与固体的相互作用及邻近效应
2．4．1 电子束与固体的相互作用
2．4．2 邻近效应及校正
2．5 充电效应及解决方法
2．5．1 引入导电膜
2．5．2 变压电子束曝光系统
2．5．3 临界能量电子束曝光
2．6 三维结构的制备
2．6．1 平整衬底上三维结构的加工
2．6．2 三维衬底上图形的制备
2．7 电子束曝光分辨率
2．8 新型的电子束曝光技术
2．8．1 投影电子束曝光
2．8．2 微光柱阵列电子束曝光
2．8．3 反射电子束曝光
参考文献

第3章 聚焦离子束加工技术
3．1 聚焦离子束系统的基本组成
3．2 聚焦离子束的基本功能与原理
3．2．1 离子束成像
3．2．2 离子束刻蚀
3．2．3 离子束辅助沉积
3．2．4 FIB的传统应用
3．3 聚焦离子束的三维纳米加工
3．3．1 FIB刻蚀加工三维结构
3．3．2 FIB沉积加工三维结构
3．3．3 FIB辐照加工三维结构
3．4 聚焦离子束技术的发展
……
第4章 激光加工技术
第5章 纳米压印技术
第6章 刻蚀技术
第7章 薄膜技术
第8章 自组装加工
第9章 微纳加工在电学领域的应用
第10章 微纳加工在光学领域的应用
第11章 微纳加工在磁学领域的应用
第12章 微纳加工在其他领域的应用
索引