搜索
高级检索
高级搜索
书       名 :
著       者 :
出  版  社 :
I  S  B  N:
文献来源:
出版时间 :
产业专利分析报告.第12册,液晶显示
0.00    
图书来源: 浙江图书馆(由图书馆配书)
  • 配送范围:
    全国(除港澳台地区)
  • ISBN:
    9787513017909
  • 作      者:
    杨铁军主编
  • 出 版 社 :
    知识产权出版社
  • 出版日期:
    2013
收藏
内容介绍
  《产业专利分析报告(第12册):液晶显示》是液晶显示行业的专利分析报告。报告从液晶显示行业的专利(国内、国外)申请、授权、申请人的已有专利状态、其他先进国家的专利状况、同领域领先企业的专利壁垒等方面入手,充分结合相关数据,展开分析,并得出分析结果。《产业专利分析报告(第12册):液晶显示》是了解液晶显示行业技术发展现状并预测未来走向,帮助企业做好专利预警的必备工具书。
展开
精彩书摘
  日本是氧化物TFT技术输出大国,很早就重视氧化物TFT技术的专利布局。1984年开始申请氧化物TFT专利,从2001年开始稳步快速增长,除2004年外日本一直保持专利申请全球第一。日本参与氧化物TFT研究的技术研发主体最多,包括半导体能源研究所、佳能、富士、柯尼卡、索尼、夏普等公司,它们都在氧化物TFT技术研发上有很大投入,具有很强的研发实力。其中夏普公司更是宣布其位于日本龟山的8代线于2012年4月正式量产采用IGZOTFT的液晶面板,成为业界首家量产氧化物TFT液晶面板的厂商。
  韩国进入氧化物TFT技术研究的时间比日本稍晚,其专利申请量从2005年开始稳步上升,目前稳居全球申请量第二的位置。这与韩国面板厂商在AMOLED领域的战略布局有直接关系,其中韩国主要申请人三星功不可没,在面板行业产业竞争日趋激烈的过程中,三星必然会加大氧化物TFT的研发力度。目前业内普遍认可的刻蚀阻挡型即为三星SDI率先提出,2008年,三星公布了一款应用刻蚀阻挡层氧化物TFT结构的12.1英寸WXGAAMOLED显示屏,表现了良好的显示性能。2010年底,三星SDI推出70英寸的IGZO-TFT面板,并成功用于驱动液晶显示,基于金属氧化物材料的大尺寸IGZO-TFT面板技术获得重大突破,该大尺寸氧化物TFT背板采用第7代生产线试制成功,标志着氧化物TFT面板具有广阔的产业前景。
  美国虽然早在1980年就出现了用于液晶显示驱动的氧化物TFT技术专利申请,但是申请量开始连续增长始于2002年,之后申请处于波浪式发展态势,年申请量增长不大。随着液晶显示产业全球范围内的四次转移浪潮,美国目前虽然没有大型液晶面板生产企业,但氧化物TFT技术专利申请量位居全球第三的事实充分显示,美国依旧研发并掌握着液晶显示产业的前沿技术。
  中国从2004年开始出现氧化物TFT技术的专利申请,起步较晚。一部分原因是液晶显示产业前沿研究的带头力量不在中国,中国台湾地区和中国大陆的企业起初将关注重心放在制造而不是研发上,与日、韩、美企业在技术上还有较大差距,还处于对氧化物TFT技术的模仿和起步研发阶段;另一部分原因在于目前国内氧化物TFT技术专利申请的主要力量是国内高等院校及研究所,由于中国建立专利制度的时间较晚,国内发明创造主体的专利意识有限,没能及时将研究成果转化为专利申请。
  值得一提的是,尽管存在2010年11月之后专利数据不完整的情况,中国申请人(含中国台湾)对氧化物TFT技术的专利申请量在2010年和2011年仍保持高速增长,相对于全球专利申请趋势逆势而上。
  ……
展开
目录
第1章 概述
1.1 研究背景
1.2 研究对象和方法

第2章 LCD专利态势分析
2.1 LCD全球专利申请分析
2.1.1 全球专利申请趋势及发展阶段
2.1.2 全球各技术分支发展趋势
2.1.3 全球主要国家或地区专利分布
2.1.4 全球专利申请人排名
2.2 LCD中国专利申请分析
2.2.1 中国专利申请趋势
2.2.2 中国专利各技术分支发展趋势
2.2.3 中国专利主要国家或地区分布
2.2.4 中国专利申请人分析
2.3 LCD专利技术分析
2.3.1 阵列技术专利分析
2.3.2 成盒技术专利分析
2.3.3 测试修补技术专利分析
2.3.4 背光技术专利分析
2.3.5 驱动技术专利分析
2.3.6 固定支撑装配技术专利分析

第3章 氧化物TFT技术专利分析
3.1 概述
3.2 氧化物TFT专利申请态势分析
3.2.1 全球专利申请趋势及主要国家对比
3.2.2 各主要技术分支构成及国别对比
3.2.3 主要技术输出国技术流向分析
3.2.4 中国专利态势分析
3.3 氧化物TFT技术发展分析
3.3.1 氧化物TFT技术发展路线图
3.3.2 氧化物TFT技术功效分析
3.3.3 沟道层材料应用状况分析
3.4 申请人分析
3.4.1 全球及中国专利申请人排名
3.4.2 主要申请人专利布局及趋势分析
3.4.3 各省市产学研分析及国内申请人排名
3.5 重要申请人专利分析
3.5.1 三星公司专利状况分析
3.5.2 夏普公司专利状况分析
3.5.3 友达光电专利状况分析
3.5.4 惠普公司专利状况分析
3.5.5 各公司专利状况对比分析
3.6 重要发明人分析
3.6.1 细野秀雄及其团队
3.6.2 霍夫曼及其团队
3.6.3 研发团队对比分析
3.7 重要专利的筛选
3.7.1 选取规则
3.7.2 代表性专利目录

第4章 GOA技术专利分析
4.1 概述
4.2 GOA专利申请态势分析
4.2.1 全球专利态势趋势及主要国家对比
4.2.2 各主要技术分支构成及国别对比
4.2.3 主要技术输出国技术流向分析
4.2.4 中国专利态势分析
4.3 申请人分析
4.3.1 全球及中国专利申请排名
4.3.2 主要申请人专利布局
4.4 重要申请人专利分析
4.4.1 友达光电
4.4.2 京东方
4.5 重要技术专利分析
4.5.1 测试技术分析
4.5.2 修补技术分析

第5章 三星公司专利分析
5.1 发展概
5.2 三星全球专利分析
……

第6章 夏普公司专利分析
第7章 友达光电专利分析
第8章 专利侵权诉讼状况分析
第9章 结论
附表主要申请人名称约定表
图索引
表索引
展开
加入书架成功!
收藏图书成功!
我知道了(3)
发表书评
读者登录

请选择您读者所在的图书馆

选择图书馆
浙江图书馆
点击获取验证码
登录
没有读者证?在线办证