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MOS集成电路工艺与制造技术
￥0.00    
图书来源: 浙江图书馆(由图书馆配书)
  • 配送范围:
    全国(除港澳台地区)
  • ISBN：
    9787547809808
  • 作      者：
    潘桂忠编著
  • 出 版 社 ：
    上海科学技术出版社
  • 出版日期：
    2012
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内容介绍
    《MOS集成电路工艺与制造技术》全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括：硅晶圆衬底，氧化，扩散，离子注入，外延，化学汽相淀积，光刻，付蚀与刻蚀等，PNOS，NMOS，CMOS，LV HV兼容CMOS等制造工艺。
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