与半导体制造工艺相比,半导体封装工艺产生的废气较为简单,主要是酸性气体、环氧树脂及粉尘。酸性废气主要产生于电镀等工艺;烘烤废气则产生于晶粒粘贴、封胶后烘烤过程;划片机在晶片切割过程中,产生含微量矽尘的废气。
(3)固体废物产生
固体废物主要有:废水处理污泥,含氟废水处理污泥的主要成分为CaF2;一般固体废物,采用分类收集、存放的方法,交由有资质的专业单位统一处置;废过滤芯,包括区域性废气处理系统的干式吸附处理危险废物,由原生产厂回收;废试剂容器瓶,为玻璃或塑料制品,清洗后回用或由废品回收商回收;危险废物,包括扩散、离子注入产生的含砷废物和光刻(黄光区)产生的废弃含汞灯泡,分类收集、存放,交由有资质的专业单位统一处置。
(4)废液产生
废液主要有:有机废液,包括匀胶、光刻、清洗、显影等废光刻胶;废显影液;废有机溶剂。废液一般采用分类收集、存放在相应的专用储罐中,交由有资质的专业单位统一处置(再生或焚烧)。
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