与分立元件相比,集成电路将晶体管、电阻、电容、二极管等电子组件整合装至一块芯片(chip)上,由于集成电路的体积极小,使载流子运动的距离大幅缩小,因此速度更快且可靠性更高。在集成电路的发展初期,集成电路的种类一般是以内含晶体管等电子组件的数量来划分,其分类如下:
MSI(中型集成电路),晶体管数100-1000;
LSI(大规模集成电路),晶体管数1000-100000;
VLSI(超大规模集成电路),晶体管数100000以上。
然而集成电路的发展一直遵循摩尔指示的规律推进,即工艺特征尺寸大约每18个月减小一倍,集成度大约每18个月翻一番,至今已有40年的历史。在VLSI之后,就再也没有出现过被广为接受的以晶体管个数形式命名的集成电路类型划分名称。如今,集成电路已经进入深弧微米阶段,国外主流设计工艺尺寸已经达到90nm,最新工艺尺寸已达到40nm,国内也发展到了O.13um,单芯片可集成的晶体管数已经超过千万。由于信息市场的需求和微电子自身的发展,引发了以微细加工(集成电路特征尺寸不断缩小)为主要特征的多种工艺集成技术和面向应用的系统级芯片的发展。
随着半导体产业进入超深亚微米乃至纳米加工时代,在单一集成电路芯片上就可以实现一个复杂的电子系统,诸如手机芯片、数字电视芯片、DVD芯片等,这就是片上系统SoC(System-on-Chip)。在未来几年内,有上亿个晶体管、几千万个逻辑门的集成电路都可望在单一芯片上实现。
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