搜索
高级检索
高级搜索
书       名 :
著       者 :
出  版  社 :
I  S  B  N:
文献来源:
出版时间 :
薄膜体声波谐振器的原理、设计与应用
0.00    
图书来源: 浙江图书馆(由图书馆配书)
  • 配送范围:
    全国(除港澳台地区)
  • ISBN:
    9787313065162
  • 作      者:
    张亚非,陈达著
  • 出 版 社 :
    上海交通大学出版社
  • 出版日期:
    2011
收藏
编辑推荐
    近年发展起来的薄膜声波谐振(FBAR),性能好,效率高,可制成高性能的滤波器、双工器、振荡器等集成微波器件的高灵敏传感器,在新一代通信实验和超微量生化检测领域具有广阔的应用前景。张亚非和陈达合著的这本《薄膜体声波谐振器的原理设计与应用》系统地阐述了FBAR的基本原理、设计方法、关键技术及对材料体系的要求,有着较高的学术和应用价值。全书共有9章,对FBAR的重要技术进?了总结概括与深入分析。 <br>    本书适合谐振器研究开发人员以及高校相关专业师生阅读使用。
展开
内容介绍
    随着薄膜与微纳制造技术的发展,电子器件正向微型化、高密集复用、高频率和低功耗的方向迅速发展。近年来发展起来的薄膜体声波谐振器(FBAR)的工作频率比传统声表面波(SAW)器件、石英晶体谐振器和陶瓷介质器件都要高(可达1-10GHz),又具有体积小、Q值更高、损耗低、功率承载性好、换能效率高等优点。可以制成高性能滤波器、双工器、振荡器等多种射频集成微波器件和高灵敏传感器等,在新一代无线通信系统和超微量生化检测领域具有广阔的应用前景。张亚非和陈达合著的这本《薄膜体声波谐振器的原理设计与应用》系统地阐述了FBAR的基本原理、设计方法、关键技术及其材料体系的要求,并对FBAR的重要应用技术进行了总结概括与深入分析。《薄膜体声波谐振器的原理设计与应用》可供从事谐振器理论和器件研究开发的专业技术人员阅读,也可供高等院校电子信息、通信系统、传感器检测、微电子学、微机电系统(MEMS)、自动化等领域的科技人员和相关专业师生阅读参考。
展开
目录
第1章  绪论<br>1.1  无线通信系统的发展对射频器件的要求<br>1.2  薄膜体声波谐振器的原理和特点<br>1.3  薄膜体声波谐振器的结构和材料<br>1.3.1  薄膜体声波谐振器的结构<br>1.3.2  薄膜体声波谐振器的材料<br>1.4  薄膜体声波谐振器的研究进展<br>参考文献<br>第2章  固体中的平面波<br>2.1  固体中平面声波方程<br>2.1.1  弹性形变的基本方程<br>2.1.2  弹性体中的平面声波方程<br>2.2  各向同性介质中的平面声波<br>2.3  各向异性介质中的平面声波<br>2.3.1  色散关系和倒速度面<br>2.3.2  波方程求解举例<br>2.4  压电介质中的平面声波<br>2.5  六方晶系介质中?声平面波<br>参考文献<br>第3章  薄膜体声波谐振器的理论模型<br>3.1  理想薄膜体声波谐振器的电学阻抗<br>3.1.1  理想谐振器阻抗的解析表达<br>3.1.2  薄膜体声波谐振器的谐振频率<br>3.2  复合结构薄膜体声波谐振器的电学阻抗<br>3.2.1  声阻抗的定义<br>3.2.2  复合模型的边界条件<br>3.3  薄膜体声波谐振器的损耗和性能参数<br>3.4  薄膜体声波谐振器的机电等效模型<br>3.4.1  各层材料的等效模型<br>3.4.2  普适机电等效模型<br>3.4.3  谐振点附近的近似等效电路<br>3.5  谐振器材料和结构对性能的影响<br>3.5.1  电极材料和厚度的影响<br>3.5.2  支撑层和残余背硅层的影响<br>参考文献<br>第4章  压电薄膜的制备方法<br>4.1  真空蒸发淀积<br>4.1.1  真空蒸发淀积特点与蒸发过程<br>4.1.2  蒸发过程的重要参量<br>4.1.3  蒸发源的蒸气发射特性<br>4.1.4  加热源的类型<br>4.1.5  反应蒸发<br>4.1.6  分子束外延<br>4.2  溅射沉积<br>4.2.1  溅射的基本原理<br>4.2.2  溅射产额<br>4.2.3  反应溅射<br>4.2.4  射?溅射<br>4.2.5  磁控溅射<br>4.3  化学气相淀积<br>4.3.1  化学气相淀积的特点<br>4.3.2  化学气相淀积的基本过程和化学反应<br>4.3.3  金属有机气相化学淀积<br>4.3.4  CVD的装置<br>4.4  脉冲激光沉积技术<br>4.4.1  脉冲激光沉积的原理和特点<br>4.4.2  激光光源<br>4.4.3  沉积系统<br>参考文献<br>第5章  AlN薄膜的溅射沉积和刻蚀<br>5.1  射频磁控溅射制备AlN薄膜<br>5.1.1  AlN薄膜的制备工艺<br>5.1.2  射频功率对薄膜结构的影响<br>5.1.3  气氛压强和比例对薄膜晶体结构的影响<br>5.1.4  衬底温度对薄膜晶体结构的影响<br>5.1.5  AlN薄膜的微观形貌和成分<br>5.1.6  AlN薄膜的生长机制<br>5.1.7  溅射AlN薄膜的应力<br>5.2  在不同电极上沉积的A1N薄膜的结构特性<br>5.3  氟基气体对AlN薄膜的反应离子刻蚀<br>5.3.1  AlN薄膜的干法刻蚀方法<br>5.3.2  刻蚀速率<br>5.3.3  刻蚀图形形貌<br>5.3.4  氟基气体对AlN薄膜的刻蚀机理分析<br>5.4  AlN薄膜的湿法刻蚀<br>5.4.1  实验过程<br>5.4.2  薄膜织构和晶体?量对湿法刻蚀速率的影响<br>5.4.3  刻蚀反应的激活能<br>5.4.4  刻蚀图形形貌<br>参考文献<br>第6章  横膈膜型薄膜体声波谐振器<br>6.1  横膈膜型谐振器的结构和测试方法<br>6.1.1  横膈膜型谐振器的结构<br>6.1.2  测试器件的电极形状和测试方法<br>6.2  横膈膜型谐振器的制作过程<br>6.3  PZT压电薄膜的制备和性质<br>6.3.1  溶胶凝胶法制备PZT<br>6.3.2  PZT薄膜的结构和性质<br>6.4  横膈膜型谐振器的工艺过程<br>6.4.1  光刻工艺<br>6.4.2  PZT膜的刻蚀<br>6.4.3  二氧化硅的刻蚀<br>6.4.4  硅的刻蚀<br>6.5  PZT横膈膜型谐振器的性能测试<br>6.5.1  谐振器的测试结果<br>6.5.2  器件性能分析<br>参考文献<br>第7章  固体装配型体声波谐振器<br>7.1  固体装配型谐振器的设计<br>7.1.1  固体装配型谐振器的结构<br>7.1.2  固体装配型谐振器的理论模型<br>7.1.3  固体装配型谐振器频率响应的模拟<br>7.2  AlN固体装配型谐振器的制备<br>7.2.1  布拉格反射层<br>7.2.2  固体装配型谐振器的制备工艺<br>7.2.3  AlN薄膜的结?和形貌<br>7.2.4  多层薄膜的应力<br>7.3  固体  装配型谐振器的性能测试<br>7.3.1  固体装配型谐振器的S11参数<br>7.3.2  固体装配型谐振器的阻抗特性<br>7.3.3  固体装配型谐振器的性能参数<br>参考文献<br>第8章  薄膜体声波谐振器在射频滤波器中的应用<br>8.1  薄膜体声波滤波器的基本拓扑结构<br>8.2  梯形拓扑结构的薄膜体声波滤波器<br>8.2.1  薄膜体声波滤波器的工作原理<br>8.2.2  梯形拓扑薄膜体声波滤波器的设计<br>8.2.3  声学耦合的薄膜体声波滤波器<br>8.3  PCS  CDMA接收滤波器的设计实例<br>8.4  基于FBAR的双工器与振荡器<br>8.4.1  基于薄膜体声波谐振器的双工器<br>8.4.2  基于薄膜体声波谐振器的振荡器<br>8.4.3  FBAR的片上集成<br>参考文献<br>第9章  基于薄膜体声波谐振器的高灵敏传感器<br>9.1  压电石英晶体微天平传感器<br>9.1.1  石英晶体微天平<br>9.1.2  压电晶体的传感原理<br>9.1.3  压电晶体谐振传感器的测量方法<br>9.2  压电晶体传感器的敏感材料<br>9.2.1  吸附敏感材料的要求与作用机理<br>9.2.2  敏感材?的涂覆方法<br>9.2.3  压电晶体传感器的应用<br>9.3  碳纳米管敏感材料<br>9.3.1  碳纳米管的吸附性能<br>9.3.2  碳纳米管作为吸附层的应用<br>9.4  基于薄膜体声波谐振器的传感器<br>9.4.1  薄膜体声波谐振器的传感原理<br>9.4.2  传感器的MBVD电路<br>9.4.3  薄膜体声波谐振器的物质检测<br>9.4.4  基于薄膜体声波谐振器的其他检测<br>9.5  基于碳纳米管敏感材料的FBAR传感器<br>9.5.1  碳纳米管敏感层的形成方法<br>9.5.2  FBAR传感器的实例<br>9.5.3  传感器频率的质量敏感性<br>9.5.4  传感器对碳纳米管层沉积的频率响应<br>9.5.5  传感器对碳纳米管层吸附的频率响应<br>参考文献<br>索引
展开
加入书架成功!
收藏图书成功!
我知道了(3)
发表书评
读者登录

请选择您读者所在的图书馆

选择图书馆
浙江图书馆
点击获取验证码
登录
没有读者证?在线办证