第1章 微电子学导引 <br>1.1 经济的影响 <br>1.2 概念和术语 <br>1.2.1 吉尼斯纪录的视角 <br>1.2.2 市场视角 <br>1.2.3 生产的视角 <br>1.2.4 设计工程师的视角 <br>1.2.5 商业的视角 <br>1.3 数字vlsi设计流程 <br>1.3.1 y图,数字电子系统的地图 <br>1.3.2 vlsi设计的主要阶段 <br>1.3.3 单元库 <br>1.3.4 电子设计自动化软件 <br>1.4 fpl <br>1.4.1 配置技术 <br>1.4.2 硬件资源的结构 <br>1.4.3 商业产品 <br>1.5 问题 <br>1.6 附录 i :逻辑系列的简明术语表 <br>1.7 附录ii:用图表汇编电路有关的术语 <br>第2章 从算法到架构 <br>2.1 架构设计的目标 <br>2.2 两种相对的架构 <br>2.2.1 算法的什么性质使得它适合专用的vlsi架构 <br>2.2.2 在相对的架构中间有很大的空间 <br>2.2.3 通用处理单元和专用处理单元的联合 <br>2.2.4 协处理器 <br>2.2.5 专用指令集处理器 <br>2.2.6 可配置计算 <br>2.2.7 可扩展指令集处理器 <br>2.2.8 摘要 <br>2.3 vlsi架构设计的变换方法 <br>2.3.1 算法领域的再建模空间 <br>2.3.2 架构领域的再建模空间 <br>2.3.3 系统工程师和vlsi设计师必须通力合作 <br>2.3.4 描述处理算法的图示方法 <br>2.3.5 同形架构 <br>2.3.6 架构选择的优缺点 <br>2.3.7 计算周期与时钟周期 <br>2.4 组合运算的等价变换 <br>2.4.1 共同的前提 <br>2.4.2 迭代分解 <br>2.4.3 流水线 <br>2.4.4 复制 <br>2.4.5 时间共享 <br>2.4.6 结合变换 <br>2.4.7 其他代数变换 <br>2.4.8 摘要 <br>2.5 临时数据存储的方法 <br>2.5.1 数据访问模式 <br>2.5.2 可用的存储器配置和面积占用 <br>2.5.3 存储容量 <br>2.5.4 片外的连线和成本 <br>2.5.5 延迟和时序 <br>2.5.6 摘要 <br>2.6 非递归计算的等价变换 <br>2.6.1 重定时 <br>2.6.2 回顾流水线 <br>2.6.3 脉动变换 <br>2.6.4 回顾迭代分解和时间共享 <br>2.6.5 回顾复制 <br>2.6.6 摘要 <br>2.7 递归计算的等价变换 <br>2.7.1 反馈的障碍 <br>2.7.2 展开第一阶循环 <br>2.7.3 更高阶的循环 <br>2.7.4 时变的循环 <br>2.7.5 非线性或一般的循环 <br>2.7.6 流水线交织不是等价变换 <br>2.7.7 摘要 <br>2.8 变换方法的推广 <br>2.8.1 推广到其他细节层次 <br>2.8.2 串行位架构 <br>2.8.3 分布式算法 <br>2.8.4 推广到其他代数结构 <br>2.8.5 摘要 <br>2.9 结论 <br>2.9.1 总结 <br>2.9.2 从能量角度看非常好的架构选择 <br>2.9.3 评估架构选择的指南 <br>2.10 问题 <br>2.11 附录i:代数结构的词汇表概要 <br>2.12 附录ii:vlsi子函数的面积和延时数据 <br>第3章 功能验证 <br>3.1 如何建立有效的功能规格说明 <br>3.1.1 形式化的规格说明 <br>3.1.2 快速原型 <br>3.2 制定适合的仿真策略 <br>3.2.1 需要什么条件才能在仿真中发现设计缺陷 <br>3.2.2 仿真和响应检查必须自动发生 <br>3.2.3 彻底的验证仍然是个难以达到的目标 <br>3.2.4 所有的局部验证的技术都有各自的缺陷 <br>3.2.5 从多个来源搜集测试用例会有帮助 <br>3.2.6 基于断言的验证也有帮助 <br>3.2.7 把测试开发和电路设计分开也有帮助 <br>3.2.8 虚拟原型有助于产生期望的响应 <br>3.3 在整个设计周期里重用相同的功能量规 <br>3.3.1 处理激励和期望响应可选方法 <br>3.3.2 模块化的测试平台设计 <br>3.3.3 激励和响应明确定义的时间表 <br>3.3.4 略过冗余的仿真序列降低运行次数 <br>3.3.5 抽象到对更高层次数据的更高层次处理 <br>3.3.6 在多个电路模型之间吸收延迟变化 <br>3.4 结论 <br>3.5 问题 <br>3.6 附录i:功能验证的形式方法 <br>3.7 附录ii:为仿真和测试推导一个前后一致的时间表 <br>第4章 使用vhdl为硬件建模 <br>4.1 动机 <br>4.1.1 为什么要做硬件综合 <br>4.1.2 vhdl还有哪些替代者 <br>4.1.3 ieee 1076标准的起源和目标是什么 <br>4.1.4 为什么要费力去学硬件描述语言 <br>4.1.5 议程 <br>4.2 关键概念和vhdl结构 <br>4.2.1 电路层次和连接 <br>4.2.2 并行进程和进程交互 <br>4.2.3 离散信号代替电信号 <br>4.2.4 基于事件的时间概念用于控制仿真 <br>4.2.5 模型参数化工具 <br>4.2.6 从编程语言借用的概念 <br>4.3 把vhdl用于硬件综合 <br>4.3.1 综合概述 <br>4.3.2 数据类型 <br>4.3.3 寄存器、有限状态机和其他时序子电路 <br>4.3.4 ram、rom和其他宏单元 <br>4.3.5 必须在网表级别控制的电路 <br>4.3.6 时序约束 <br>4.3.7 关于综合的限制和警告 <br>4.3.8 如何逐步建立寄存器传输级模型 <br>4.4 把vhdl用于硬件仿真 <br>4.4.1 数字仿真的要素 <br>4.4.2 一般测试模块解析 <br>4.4.3 改编来适应手边的设计问题 <br>4.4.4 ieee 1076.4 vital模型标准 <br>4.5 小结 <br>4.6 问题 <br>4.7 附录i:关于vhdl的书籍和网页 <br>4.8 附录ii:相关的扩展和标准 <br>4.8.1 受保护的共享变量ieee 1076a <br>4.8.2 模拟和混合信号扩展ieee 1076.1 <br>4.8.3 实数和复数的数学包ieee 1076.2 <br>4.8.4 算术包ieee 1076.3 <br>4.8.5 指定作为综合的语言子集ieee 1076.6 <br>4.8.6 标准延时格式(sdf)ieee 1497 <br>4.8.7 类型转换函数的一个便捷的汇编 <br>4.9 附录iii:vhdl模型的例子 <br>4.9.1 组合电路模型 <br>4.9.2 mealy、moore和medvedev状态机 <br>4.9.3 状态化简和编码 <br>4.9.4 仿真测试平台 <br>4.9.5 使用不同厂商的vhdl工具 <br>第5章 同步电路设计情况 <br>5.1 引言 <br>5.2 控制状态改变的重要选择 <br>5.2.1 同步时钟 <br>5.2.2 异步时钟 <br>5.2.3 自定时时钟 <br>5.3 为什么在vlsi中严格的时钟方案绝对必要 <br>5.3.1 冒险的危险 <br>5.3.2 同步时钟的优缺点 <br>5.3.3 按需提供时钟不是vlsi的选择 <br>5.3.4 完全自定时的时钟通常也不是个选择 <br>5.3.5 系统时钟的混合方案 <br>5.4 同步电路设计的注意事项 <br>5.4.1 第一条指导原则:分离信号种类 <br>5.4.2 第二条指导原则:允许电路在时钟到达前稳定 <br>5.4.3 更详细的同步设计规则 <br>5.5 结论 <br>5.6 问题 <br>5.7 附录:关于识别信号种类 <br>5.7.1 信号种类 <br>5.7.2 有效电平 <br>5.7.3 波形的信息 <br>5.7.4 三态性能 <br>5.7.5 输入、输出和双向端点 <br>5.7.6 当前状态与下一个状态 <br>5.7.7 句法惯例 <br>5.7.8 关于vhdl中的大写和小写字母的注释 <br>5.7.9 关于名字跨eda平台可移植性的注释 <br>第6章 同步电路的时钟 <br>6.1 时钟分配的困难是什么 <br>6.1.1 议程 <br>6.1.2 时钟分配有关的时间量 <br>6.2 一个电路可以承受多大的偏移和抖动 <br>6.2.1 基本知识 <br>6.2.2 单边沿触发一相时钟 <br>6.2.3 双边沿触发的一相时钟 <br>6.2.4 对称的电平敏感两相时钟 <br>6.2.5 非对称的电平敏感两相时钟 <br>6.2.6 一线电平敏感两相时钟 <br>6.2.7 电平敏感一相时钟和行波流水线 <br>6.3 如何把时钟偏移保持在紧密的范围内 <br>6.3.1 时钟波形 <br>6.3.2 集中式时钟缓冲器 <br>6.3.3 分布式时钟缓冲器树 <br>6.3.4 混合式时钟分布网络 <br>6.3.5 时钟偏移分析 <br>6.4 如何实现友好的输入/输出时序 <br>6.4.1 友好的和不友好的i/o 时序对比 <br>6.4.2 时钟分布延时对i/o时序的影响 <br>6.4.3 ptv变化对i/o时序的影响 <br>6.4.4 寄存器输入和输出 <br>6.4.5 在输入端人为增加组合延时 <br>6.4.6 用提前的时钟驱动输入寄存器 <br>6.4.7 从最慢的器件中抽出一个时钟域的时钟 <br>6.4.8 通过pll和dll实现“零延时”时钟分布 <br>6.5 如何正确地实现门控时钟 <br>6.5.1 传统的带使能反馈型寄存器 <br>6.5.2 天然的和不可靠的门控时钟方案 <br>6.5.3 某些情况下可行的简单门控时钟方案 <br>6.5.4 可靠的门控时钟方案 <br>6.6 小结 <br>6.7 问题 <br>第7章 异步数据采集 <br>7.1 动机 <br>7.2 向量采集的数据一致性问题 <br>7.2.1 简单的并行位同步 <br>7.2.2 单位距离编码 <br>7.2.3 交叉向量的消除 <br>7.2.4 握手 <br>7.2.5 部分握手 <br>7.3 标量采集的数据一致性问题 <br>7.3.1 完全没有同步 <br>7.3.2 多地点同步 <br>7.3.3 单地点同步 <br>7.3.4 由慢时钟同步 <br>7.4 同步器的亚稳态行为 <br>7.4.1 边际触发及其如何回到确定状态 <br>7.4.2 对电路功能的影响 <br>7.4.3 一个评价同步器可靠性的统计模型 <br>7.4.4 准同步接口 <br>7.4.5 亚稳态行为的抑制 <br>7.5 小结 <br>7.6 问题 <br>第8章 门级和晶体管级设计 <br>8.1 cmos逻辑门 <br>8.1.1 作为开关的mosfet <br>8.1.2 反相器 <br>8.1.3 简单的cmos门电路 <br>8.1.4 复合门 <br>8.1.5 有高阻抗能力的门电路 <br>8.1.6 奇偶校验门电路 <br>8.1.7 加法器片 <br>8.2 cmos 双稳态 <br>8.2.1 锁存器 <br>8.2.2 功能锁存器 <br>8.2.3 单边沿触发的触发器 <br>8.2.4 所有触发器的根源 <br>8.2.5 双边沿寄存器 <br>8.2.6 摘要 <br>8.3 cmos片上存储器 <br>8.3.1 sram <br>8.3.2 dram <br>8.3.3 其他的区别和共同点 <br>8.4 cmos的电学精巧设计 <br>8.4.1 纽扣 <br>8.4.2 施密特触发器 <br>8.4.3 打结单元 <br>8.4.4 填充单元 <br>8.4.5 电平位移器和输入/输出缓冲器 <br>8.4.6 数字可调延时线 <br>8.5 陷阱 <br>8.5.1 总线和三态节点 <br>8.5.2 传输门和其他双向元件 <br>8.5.3 可靠的设计意味什么 <br>8.5.4 微处理器的接口电路 <br>8.5.5 机械接触 <br>8.5.6 总结 <br>8.6 问题 <br>8.7 附录i:mosfet电学模型概要 <br>8.7.1 命名和计算约定 <br>8.7.2 sah模型 <br>8.7.3 shichman-hodges模型 <br>8.7.4 ?指数律模型 <br>8.7.5 2阶效应 <br>8.7.6 晶体管模型通常不描述的效应 <br>8.7.7 结论 <br>8.8 附录ⅱ:bjt <br>第9章 能量效率与热量排除 <br>9.1 cmos电路中能量消耗在何处 <br>9.1.1 电容负载的充电和放电 <br>9.1.2 交变电流 <br>9.1.3 阻性负载 <br>9.1.4 泄漏电流 <br>9.1.5 总能量消耗 <br>9.1.6 cmos电压缩放 <br>9.2 如何提高能量效率 <br>9.2.1 一般准则 <br>9.2.2 如何降低动态消耗 <br>9.2.3 如何减少漏电流 <br>9.3 热传导与热量排除 <br>9.4 附录i:节点电容的来源 <br>9.5 附录ii:非常规方法 <br>9.5.1 亚阈值逻辑 <br>9.5.2 电压摆幅减小技术 <br>9.5.3 绝热逻辑 <br>第10章 信号完整性 <br>10.1 引言 <br>10.1.1 噪声如何进入到电子电路中 <br>10.1.2 噪声如何影响数字电路 <br>10.1.3 议程 <br>10.2 串扰 <br>10.3 地弹与电源低落 <br>10.3.1 源于公共串联阻抗的耦合机制 <br>10.3.2 开关大电流源自何处 <br>10.3.3 地弹的影响有多严重 <br>10.4 如何减轻地弹 <br>10.4.1 降低有效串联阻抗 <br>10.4.2 隔离污染者与潜在的受害者 <br>10.4.3 避免过大的翻转电流 <br>10.4.4 确保噪声容限 <br>10.5 小结 <br>10.6 问题 <br>10.7 附录:2阶近似的推导 <br>第11章 物理设计 <br>11.1 议程 <br>11.2 导电层和它们的特性 <br>11.2.1 几何特性与版图规则 <br>11.2.2 电学性质 <br>11.2.3 层间连接 <br>11.2.4 导电层的典型功能 <br>11.3 基于单元的后端设计 <br>11.3.1 平面布图规划 <br>11.3.2 确定主要的组件模块和时钟域 <br>11.3.3 确定管脚预算 <br>11.3.4 为所有主要的组件模块找到一个有相关性的排列 <br>11.3.5 规划电源、时钟和信号分布 <br>11.3.6 布局和布线 <br>11.3.7 芯片装配 <br>11.4 封装 <br>11.4.1 晶圆分拣 <br>11.4.2 晶圆测试 <br>11.4.3 晶背面研磨和切割 <br>11.4.4 密封 <br>11.4.5 最终测试和分级 <br>11.4.6 键合图与键合规则 <br>11.4.7 先进的封装技术 <br>11.4.8 选择封装技术 <br>11.5 版图的细节设计 <br>11.5.1 手工版图设计的目标 <br>11.5.2 版图设计不是所见即所得的事情 <br>11.5.3 标准单元版图 <br>11.5.4 门海宏单元版图 <br>11.5.5 sram单元的版图 <br>11.5.6 光刻友好的版图有助于提高制造良率 <br>11.5.7 网格,高效流行的版图排列 <br>11.6 防止过度电性应力 <br>11.6.1 电迁移 <br>11.6.2 esd <br>11.6.3 闩锁 <br>11.7 问题 <br>11.8 附录i:vlsi宣传的几何量 <br>11.9 附录ii: 关于工艺版图图形中扩散区的编码 <br>11.10 附录iii:方块电阻 <br>第12章 设计验证 <br>12.1 发现时序问题 <br>12.1.1 关于时序问题,仿真能告诉我们什么 <br>12.1.2 时序验证有多大帮助 <br>12.2 时序数据的准确程度 <br>12.2.1 单元延时 <br>12.2.2 互连延时和版图寄生现象 <br>12.2.3 重点是制定切实的假设 <br>12.3 更多的静态验证技术 <br>12.3.1 电学规则检查 <br>12.3.2 代码检查 <br>12.4 版图后验证 <br>12.4.1 设计规则检查 <br>12.4.2 可制造性分析 <br>12.4.3 版图抽取 <br>12.4.4 版图与网表一致性检查 <br>12.4.5 等价性检查 <br>12.4.6 版图后时序验证 <br>12.4.7 电源网格分析 <br>12.4.8 信号完整性分析 <br>12.4.9 版图后仿真 <br>12.4.10 总体状况 <br>12.5 小结 <br>12.6 问题 <br>12.7 附录i:单元和库特征化 <br>12.8 附录ii:互连模型的等效电路 <br>第13章 vlsi经济学和项目管理 <br>13.1 议程 <br>13.2 产业协作的模式 <br>13.2.1 完全用标准部件组装成的系统 <br>13.2.2 围绕着程控处理器搭建的系统 <br>13.2.3 以现场可编程逻辑为基础设计的系统 <br>13.2.4 以半定制asic为基础设计的系统 <br>13.2.5 以全定制asic为基础设计的系统 <br>13.3 asic产业内部的接口 <br>13.3.1 ic设计数据的移交点 <br>13.3.2 ic生产服务范围 <br>13.4 虚拟元件 <br>13.4.1 版权保护与给客户的信息 <br>13.4.2 设计重用要求更好的质量和更彻底的验证 <br>13.4.3 许多现有的虚拟元件需要重新设计 <br>13.4.4 虚拟元件需要跟踪服务 <br>13.4.5 保障条款 <br>13.4.6 交付一个完整的虚拟元件包 <br>13.4.7 商业模式 <br>13.5 集成电路的成本 <br>13.5.1 电路尺寸的影响 <br>13.5.2 生产工艺的影响 <br>13.5.3 生产数量的影响 <br>13.5.4 可配置性的影响 <br>13.5.5 小节摘要 <br>13.6 小批量生产方法 <br>13.6.1 多项目晶圆 <br>13.6.2 多层掩模 <br>13.6.3 电子束光刻 <br>13.6.4 激光加工 <br>13.6.5 硬连线fpga和结构化asic <br>13.6.6 成本事务 <br>13.7 市场方面 <br>13.7.1 商业成功的要素 <br>13.7.2 商业化步骤和市场重点 <br>13.7.3 服务与产品 <br>13.7.4 产品分级 <br>13.8 做出选择 <br>13.8.1 用还是不用asic <br>13.8.2 应该选择什么样的实现技术 <br>13.8.3 如果没有任何东西是已知确定的,该怎么办 <br>13.8.4 系统公司能够承担忽视微电子技术的后果吗 <br>13.9 成功的vlsi设计的关键 <br>13.9.1 项目定义和市场营销 <br>13.9.2 技术管理 <br>13.9.3 工程学 <br>13.9.4 验证 <br>13.9.5 误区 <br>13.10 附录:在微电子领域开展业务 <br>13.10.1 评估业务伙伴和设计套件的检查清单 <br>13.10.2 虚拟元件供应商 <br>13.10.3 精选一些低量生产供应商 <br>13.10.4 成本估计的一些帮助 <br>第14章 cmos工艺基础 <br>14.1 mos器件物理本质 <br>14.1.1 能带和电传导 <br>14.1.2 半导体材料的掺杂 <br>14.1.3 pn结、接触和二极管 <br>14.1.4 mosfet <br>14.2 基本的cmos制造流程 <br>14.2.1 cmos技术的关键特性 <br>14.2.2 前段制造步骤 <br>14.2.3 后段制造步骤 <br>14.2.4 工艺监控 <br>14.2.5 光刻 <br>14.3 cmos工艺主旋律的变化 <br>14.3.1 铜取代了铝作为互连材料 <br>14.3.2 低介电常数的层间介质正在取代sio2 <br>14.3.3 高介电常数栅介质要代替二氧化硅 <br>14.3.4 应变硅和硅锗工艺 <br>14.3.5 金属栅一定会再次流行 <br>14.3.6 绝缘体上硅工艺 <br>第15章 展望 <br>15.1 cmos技术的演进路径 <br>15.1.1 传统器件的缩放 <br>15.1.2 寻找新的器件拓扑结构 <br>15.1.3 隧穿mosfet <br>15.1.4 寻找更好的半导体材料 <br>15.1.5 垂直集成 <br>15.2 cmos之后还有新的机会吗 <br>15.2.1 数据存储 <br>15.2.2 纳米技术 <br>15.3 技术推动力 <br>15.3.1 所谓的行业“定律”和背后的力量 <br>15.3.2 行业路线图 <br>15.4 市场拉动 <br>15.5 设计方法学的演进路线 <br>15.5.1 生产率问题 <br>15.5.2 架构设计的新方法 <br>15.6 小结 <br>15.7 6个重大的挑战 <br>15.8 附录:非半导体存储技术比较 <br>附录a 基础数字电子学 <br>附录b 有限状态机 <br>附录c lsi设计人员的检查清单 <br>附录d 符号和常量 <br>参考文献 <br>索引
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