前言
第1章 薄膜材料与制备方法引论
1．1薄膜材料的特点
1．2常见的薄膜材料
1．2．1结构薄膜材料
1．2．2功能薄膜材料
1．3常见的薄膜制备方法
1．3．1真空蒸发沉积
1．3．2分子束外延法
1．3．3溶胶凝胶法
1．3．4溅射法
参考文献
第2章 薄膜的缺陷、界面与表征
2．1薄膜的缺陷
2．1．1点缺陷
2．1．2线缺陷
2．2薄膜的界面与薄膜间的相互扩散
2．2．1薄膜与衬底间的界面
2．2．2不同材料薄膜之间的界面
2．3薄膜材料的表征
2．4X射线衍射分析
2．5扫描隧道显微镜
2．6扫描近场光学显微镜
参考文献
第3章 PLD技术及其2．L模型一般描述
3．1PLD发展过程
3．2PLD技术制备薄膜的实验工艺
3．3PLD制备过程的一般描述
3．3．1PLD技术的物理图像的一般描述
3．3．2激光与靶材的相互作用
3．3．3等离子体膨胀
3．3．4衬底上沉积成膜
3．4PLD的z—L模型简介
3．4．1脉冲激光烧蚀靶材过程的描述
3．4．2等离子体的空间膨胀过程研究
3．4．3薄膜沉积特性研究
3．4．4等离子体冲击波模型
参考文献
第4章 激光烧蚀的基本模型与含热源项模型
4．1激光烧蚀产生的烧蚀面的位置演化规律
4．1．1烧蚀?程的基本物理图像
4．1．2烧蚀面的位置演化规律
4．2烧蚀方程的导热方程和定解条件
4．2．1导热方程与定解条件
4．2．2边界条件的非线型性
4．2．3积分法
4．3液相区和固相区的温度演化规律
4．3．1液相区的温度演化规律
4．3．2固相温度演化规律
4．4蒸发弛豫过程对烧蚀面的影响
4．4．1激光烧蚀能量阈值、弛豫时间
4．4．2烧蚀面位置的演化规律
4．5含热源项的激光烧蚀导热理论模型
4．5．1导热方程
4．5．2熔融前的定解条件
4．5．3熔融后的定解条件
4．6靶材熔融前的温度分布演化规律
4．6．1靶材熔融前温度分布的差分模拟研究
4．6．2靶材在熔融前温度随位置的分布规律
4．6．3靶材熔融前温度分布的演化规律
4．7靶材熔融后的温度和界面演化规律
4．7．1固液相的温度演化规律和固液界面演化规律
4．7．2硅靶材熔融后的温度分布模拟
参考文献
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