第1章 分析电子显微方法的基础知识
1．1 电子与物质的相互作用
1．1．1 电子的散射
1．1．2 描述电子散射的基本参量
1．1．3 散射过程的模拟
1．2 电子的非弹性散射和分析电子显微方法
1．2．1 电子能量损失谱(eeis)分析方法和x射线能谱(eds)分析方法的概述
1．2．2 分析电子显微方法和材料评价
1．3 仪器的计算机控制和分析数据的计算机处理
参考文献
第2章 分析电子显微镜的构成和基本操作
2．1 分析电子显微镜的基本结构
2．1．1 电子枪
2．1．2 高压发生器和加速管
2．1．3 照明透镜系统和偏转系统
2．1．4 试样台和试样架
2．1．5 放大和成像透镜系统
2．1．6 观察室和照相室(记录系统)
2．2 电子显微镜的基本操作
2．2．1 各种透镜的合轴调整和消像散
2．2．2 物镜聚焦的调整
参考文献
第3章 电子能量损失谱(eels)分析方法
3．1 电子的非弹性散射和eeis
3．2 eeis的谱仪
3．2．1 能量色散
3．2．2 谱仪的光学系统
3．2．3 串行探测方式和并行探测方式
3．2．4 杂散磁场的校正
3．3 eeis的分析技术
3．3．1 加速电压
3．3．2 接收角
3．3．3 分析模式
3．4 eels的理论基础
3．5 能量损失谱的解析
3．5．1 等离子激发的谱
3．5．2 非弹性散射平均自由程的测量和试样厚度的确定
3．5．3 内壳层电子激发谱
3．6 能量过滤方法的原理和应用
3．6．1 能量过滤器的光学系统
3．6．2 能量过滤器的种类和特点
3．6．3 能量过滤方法的应用
参考文献
第4章 x射线能谱(eiis)分析方法
4．1 特征x射线的产生
4．2 x射线探测器的种类和原理
4．2．1 铍窗口型
4．2．2 超薄窗口型
4．3 eds的分析技术
4．3．1 x射线的测量
4．3．2 空间分辨率
4．3．3 峰／背比(p／b)
4．3．4 元素的面分布分析方法
4．4 定量分析
4．4．1 k因子
4．4．2 定量分析实验
4．5 定量分析时的注意事项
4．5．1 试样对x射线的吸收
4．5．2 统计误差
4．5．3 逃逸峰、合峰等
4．5．4 晶体试样分析时的注意事项
4．6 原子位置确定的通道增强微分析(alchemi)方法
4．6．1 alchemi的原理
4．6．2 用alchkmi确定位置占有率
4．6．3 aichemi的精度和注意事项
参考文献
第5章 分析电子显微方法的周边技术
5．1 电子衍射方法
5．1．1 纳米束电子衍射方法
5．1．2 会聚束电子衍射方法
5．2 罗伦兹电子显微方法
5．2．1 离焦方法
5．2．2 正焦方法
5．3 电子全息照相术
5．3．1 电子全息照相术的原理
5．3．2 用全息图像测量试样的厚度
5．3．3 用电子全息照相术研究磁性
5．4 扫描电子显微方法
5．4．1 扫描电子显微镜的原理和应用
5．4．2 高角度散射暗场stem方法
5．5 试样制备方法
5．5．1 粉碎和分散方法
5．5．2 电解减薄方法
5．5．3 化学减薄方法
5．5．4 切片方法(超薄切片法)
5．5．5 离子减薄方法
5．5．6 会聚离子束(fib)方法
5．5．7 真空蒸涂方法
5．5．8 试样观察时的注意事项
参考文献
附录
附录1 物理常数、转换系数和电子波长等
附录2 电子结合能和特征x射线的能量
附录3 真空排气系统
附录4 分析电子显微方法的有关计算机软件
参考文献
索引
专栏
1) 电子透镜的工作原理
2) 高压颤动器和像颤动器
3) 能量过滤器的像差和单色性
4) 表示电子能量状态的量子数
5) 布拉格公式和高阶反射
6) 三维信息和立体观察
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