序
前言
第一章 压电材料与压电学基础
1.1 压电材料的发展
1.2 晶体的点阵结构和对称性
1.3 晶体的压电性质
1.4 压电薄膜的电学性质
参考文献
第二章 压电薄膜的制备方法
2.1 真空基础基础
2.2 真空蒸发镀膜
2.3 溅射镀膜
2.4 化学气相沉积
2.5 磁控溅射制备AIN薄膜
参考文献
第三章 薄膜的形成、结构与缺陷研究
3.1 薄膜的形成过程
3.2 薄膜的机构
3.3 薄膜的缺陷
参考文献
第四章 薄膜材料的表征方法
4.1 薄膜厚度的测量
4.2 薄膜结构的表征
4.3 薄膜成分的分析
参考文献
第五章 AIN薄膜择优取向的研究
5.1 溅射气压对薄膜择优取向的影响
5.2 靶基距对薄膜则有取向的影响
5.3 靶功率对薄膜则有取向的影响
5.4 氮气浓度对薄膜则有取向的影响
5.5 基片种类对薄膜则有取向的影响
5.6 薄膜则有取向机理的探讨
5.7 薄膜则有取向程度与实验参数之间的函数关系
5.8 薄膜的组织
参考文献
第六章 AIN薄膜的表面结构和组成分析
6.1 AIN薄膜的表面粗糙度分析
6.2 AIN薄膜的组成分析
参考文献
第七章 压电薄膜的反应
7.1 声表面波器件应用
7.2 压电薄膜题波模的应用
参考文献
附录 230个晶体学空间群
展开