本书内容涵盖了真空镀膜的关键技术和实际应用。在介绍真空镀膜技术基础理论及应用的基础上，着重阐述了真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、等离子体增强化学气相沉积的原理、工艺、应用等，紧接着介绍了薄膜厚度的测量、薄膜分析检测技术等方面的内容，最后详细阐述了工模具真空镀膜生产线的具体工艺流程。本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用，具有很强的实用性。本书适合从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域的研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考。

1 真空镀膜技术概论
1．1 真空镀膜技术分类
1．2 真空基础知识
1．3 真空镀膜系统
1．4 真空的获得
1．5 真空的测量
1．6 真空镀膜技术的应用

2 真空蒸发镀膜
2．1 真空蒸发镀膜的原理
2．2 蒸发加热方式及蒸发源
2．3 真空蒸镀工艺
2．4 真空蒸发镀膜技术的应用

3 真空溅射镀膜
3．1 溅射镀膜的特点
3．2 溅射的基本原理
3．3 直流溅射
3．4 射频溅射
3．5 磁控溅射
3．6 高功率脉冲磁控溅射
3．7 真空溅射镀膜技术的应用

4 真空离子镀膜
4．1 真空离子镀膜的分类
4．2 离子镀技术的原理
4．3 空心阴极离子镀
4．4 电弧离子镀膜
4．5 离子束沉积技术
4．6 真空离子镀膜技术的应用

5 等离子体增强化学气相沉积
5．1 化学气相沉积技术
5．2 等离子体增强化学气相沉积原理
5．3 等离子体增强化学气相沉积技术特点及发展趋势
5．4 等离子体增强化学气相沉积技术类型
5．5 各种新型等离子体增强化学气相沉积技术
5．6 等离子体增强化学气相沉积技术的应用

6 工模具真空镀膜生产线
6．1 PVD工模具涂层生产线
6．2 TiN、CrN涂层、AICrN、AITiN涂层
6．3 纳米晶非晶复合涂层TiSiN、TiBN
6．4 多元多层涂层、高熵合金涂层
参考文献