1 绪论
1.1 本书背景及研究目的和意义
1.2 非晶微丝的GMI效应
1.2.1 GMI效应
1.2.2 非晶微丝GMI效应的影响因素
1.2.3 非晶微丝GMI效应调制工艺
1.3 非晶微丝的磁畴结构
1.4 非晶微丝磁畴结构与GMI效应的相关性
1.4.1 关于磁性微丝的GMI效应调制机制
1.4.2 关于磁畴结构及与GMI效应的对应关系
1.5 本书主要研究内容
2 实验材料及研究方法
2.1 实验材料及制备方法
2.2 组织结构表征
2.2.1 X射线衍射(XRD)分析
2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)分析
2.2.3 透射电子显微镜(TEM)分析
2.2.4 差热分析(DTA)
2.3 电化学处理分析
2.3.1 电镀Ni工艺
2.3.2 等间距与螺旋电镀设计原理
2.3.3 电解抛光工艺
2.4 磁性能分析
2.4.1 软磁性能分析
2.4.2 巨磁阻抗效应分析
2.4.3 磁畴结构测试分析
3 应力对微丝磁畴结构与GMI性能的影响
3.1 引言
3.2 拉应力下GMI性能和磁畴结构
3.2.1 实验方法
3.2.2 拉应力下Co基微丝的GMI性能
3.2.3 拉应力下Co基微丝的畴结构
3.3 扭转应力作用对微丝GMI性能和磁畴结构的影响
3.3.1 实验方法
3.3.2 扭转应力对微丝GMI性能的影响
3.3.3 扭转应力对微丝表面畴结构的影响
3.3.4 理论分析
3.4 冷拔对微丝GMI性能和磁性能的影响
3.4.1 实验方案
3.4.2 冷拔后GMI性能
3.4.3 冷拔与残余应力对磁性能的影响
3.5 机械抛光对微丝畴结构的影响
3.6 本章小结
4 电化学作用对微丝磁畴结构与GMI性能的影响
4.1 引言
4.2 等间距电镀Ni对微丝磁畴结构与GMI效应的影响
4.2.1 微丝等间距电镀Ni工艺
4.2.2 微丝的GMI性能
4.2.3 电镀微丝的畴结构与形貌
4.3 螺旋微电镀Ni对微丝磁畴与GMI效应的影响
4.3.1 微丝螺旋微电镀Ni工艺
4.3.2 螺旋微电镀Ni微丝形貌
4.3.3 螺旋微电镀Ni微丝GMI性能
4.3.4 螺旋微电镀Ni微丝表面畴结构
4.4 电解抛光对微丝磁畴与GMI效应的影响
4.4.1 微丝电解抛光工艺
4.4.2 电解抛光微丝形貌
4.4.3 电解抛光微丝GMI性能
4.5 本章小结
5 微丝磁畴结构调制及其与GMI性能的关系
5.1 引言
5.2 直流焦耳与抛光调制微丝磁畴结构与GMI性能
5.2.1 直流焦耳调制微丝磁畴结构与GMI性能
5.2.2 直流焦耳热退火与抛光调制微丝磁畴结构与GMI性能
5.3 阶梯式焦耳(SJA)调制微丝畴结构与GMI性能
5.3.1 阶梯式焦耳调制微丝GMI性能
5.3.2 阶梯式焦耳调制微丝磁畴结构
5.4 低温焦耳热(CJA)调制微丝畴结构与GMI性能
5.4.1 低温焦耳热调制微丝微结构
5.4.2 低温焦耳热调制微丝畴结构
5.4.3 低温焦耳热调制微丝GMI性能
5.4.4 液态介质焦耳热调制磁畴结构与GMI性能
5.5 熔体抽拉Co基非晶微丝磁畴结构与GMI性能的对应关系
5.5.1 熔体抽拉Co基非晶微丝磁畴结构模型及磁力显微镜探测分析
5.5.2 熔体抽拉Co基非晶微丝周向畴结构的理论分析
5.5.3 熔体抽拉Co基非晶微丝畴结构与GMI性能的对应关系
5.6 本章小结
6 结论
参考文献
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