第1章 激光干涉图形化在宏观区域快速制作周期阵列的可行性
1.1 概述
1.2 多光束干涉图案的强度计算
1.3 激光干涉光刻
1.4 直接激光干涉图案
1.4.1 DLIP使用纳秒激光脉冲
1.4.2 DLIP使用飞秒激光脉冲
参考文献
第2章 激光微加工
2.1 概述
2.2 硅的激光微结构
2.2.1 激光辐射与硅的相互作用
2.2.2 单脉冲和冲击孔
2.2.3 硅的切割
2.2.4 硅的掩模投影消融
2.2.5 本节小结
2.3 低温共烧陶瓷和聚合物的激光连接
2.3.1 连接工艺
2.3.2 LTCC传感器实例
2.3.3 本节小结
参考文献
第3章 纳米尺度材料的图形和光学性质
3.1 概述
3.2 结构化技术
3.2.1 纳米压印光刻
3.2.2 激光干涉光刻
3.2.3 纳米球自组装技术
3.3 结构材料的光学特性
3.3.1 光子晶体
3.3.2 表面等离子体
3.4 本章小结
参考文献
第4章 离子束溅射
4.1 概述
4.2 实验条件
4.3 Si上的自组织图案
4.3.1 离子入射角
4.3.2 样本旋转
4.3.3 影响因素
4.3.4 离子能量
4.3.5 同时掺入金属
4.3.6 其他实验参数
4.4 其他材料
4.4.1 锗
4.4.2 III-V族化合物
4.4.3 熔融石英
4.4.4 金属
4.5 本章小结
参考文献
第5章 三维开放单元结构
5.1 概述
5.2 有限元建模
5.2.1 方法
5.2.2 线性弹性行为
5.2.3 非线性行为：变形局部化
5.3 多孔结构的制造
5.3.1 基于激光的立体光刻
5.3.2 基于动态掩模的立体光刻
5.3.3 双光子聚合
参考文献
第6章 X射线微型断层扫描法
6.1 概述
6.1.1 X射线计算机断层扫描史
6.1.2 X射线的产生
6.1.3 光子-物质相互作用
6.1.4 X射线的检测
6.2 现有技术
6.2.1 锥束CT原理
6.2.2 CT设备
6.2.3 伪影及其修正
6.2.4 CT数据评估方法
6.2.5 应用
6.3 非均质性的表征
6.3.1 聚合物系统
6.3.2 轻金属
6.3.3 铁基材料
6.3.4 金属泡沫和金属基复合材料
6.4 本章小结
参考文献
第7章 采用高能同步辐射的亚微米断层扫描
7.1 概述
7.2 高分辨率同步层析
7.3 平行光束亚微米断层扫描
7.4 投影放大断层扫描
7.5 同步加速器光束与层析设置列表
7.6 平行光束亚微米断层扫描的范例
7.7 投影放大断层扫描的范例
7.7.1 晶须增强钛合金的三维显微组织
7.7.2 多模态SiC颗粒增强铝合金
7.7.3 蠕变孔洞的形状评价
参考文献
第8章 聚焦离子束层析成像对纳米结构的表征
8.1 概述
8.2 FIB断层扫描的基础知识
8.2.1 准备感应区域
8.2.2 连续切片
8.2.3 成像
8.3 应用实例
8.3.1 铝合金的FIB/SEM层析成像
8.3.2 CVD多层涂层的FIB/SEM层析成像
8.3.3 挤压铸造AlSi12合金的FIB/EDS层析成像
8.3.4 重力铸造AISi8Mg5合金的FIB/SEM-EDS层析成像
8.3.5 由氧化镍样品放电产生凹坑的FIB/EBSD层析成像
8.3.6 其他应用
参考文献
第9章 原子探针断层扫描：原子水平的三维成像
9.1 概述
9.2 基本原理
9.3 物理冶金的应用：潜力与极限
9.4 激光辅助的三维原子探针
9.5 本章小结
参考文献
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