本书共分为6章，主要内容包含绪论、Fe-Si镀层制备方案、无磁场下制备Fe-Si镀层、水平磁场下制备Fe-Si镀层、竖直强磁场下制备Fe-Si镀层以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。本书所述内容具有前瞻性和实用性。 本书可供从事高硅钢薄带制备、电磁冶金、表面改性、新材料制备等研究方向的人员使用，亦可供相关企业技术人员参考使用。

第1章 绪论
1.1 研究背景
1.2 硅钢的性能要求及特性
1.3 高硅钢的制备工艺
1.4 磁场下复合电沉积技术
1.5 研究内容
第2章 Fe-Si镀层制备方案
2.1 电镀液成分及工作条件
2.2 实验仪器设备与材料
2.3 实验方案
2.4 制备及分析测试方法
第3章 无磁场下制备Fe-Si镀层
3.1 下置式搅拌电镀制备Fe-Si镀层
3.2 循环镀液搅拌电镀制备Fe-Si镀层
3.3 本章小结
第4章 水平磁场下制备Fe-si镀层
4.1 磁场方向、电极排布对镀层形貌及硅含量的影响
4.2 电流密度对镀层硅含量的影响
4.3 磁场与电流方向对镀层形貌及硅含量的影响
4.4 电沉积过程分析
4.5 本章小结
第5章 强磁场下制备Fe-Si镀层
5.1 垂直强磁场对镀层形貌及硅含量的影响
5.2 平行强磁场对镀层形貌及硅含量的影响
5.3 强磁场下电流密度对镀层硅含量的影响
5.4 磁场对阴极电流效率的影响
5.5 颗粒在磁场中受到的电磁力的计算
5.6 磁感应强度对镀层结构的影响
5.7 本章小结
第6章 磁场下电化学研究电沉积铁过程
6.1 复合电沉积过程理论基础
6.2 磁场下对纯铁电镀沉积过程的电化学分析研究
6.3 本章小结
参考文献