2)离子镀膜的技术要求
A.做好样品的预处理:样品在离子镀膜之前,必须进行严格的脱水、干燥等预处理。若样品干燥不充分,金属离子不仅不能很好地附着,反而会损伤样品,特别是能放出有机气体的样品,这些气体受电离作用而分解,会给样品带来“黑化污染”。经过临界点干燥的样品,如果样品内有残留的醋酸异戊酯,则需经较长时间的抽气才能加高压。当加高压时,出现样品被白色光柱包围的现象,应停掉高压,继续抽气,严重者,要对样品重新进行临界点干燥。
B.控制离子溅射条件:样品要放在金属靶极的正下方,不要超过阳极板面积的80%:样品的数目不限,但样品的面积应控制在靶极面积的1/3以内。离子溅射速度与样品到靶极的距离成反比,其距离愈大则溅射的速度愈慢。当两极之间的电压与样品到靶极的距离不变时,则通过对溅射时间的控制来掌握镀膜厚度。阴极与阳极之间的电压选择,随靶极金属的溅射率不同而异,金的溅射率较高,电压可定为800-1200V;铂的溅射率低,需用1800~3000V电压。铂和铂钯合金的溅射镀膜比金及其合金的颗粒细,更适合于高分辨率扫描电镜观察。
C.防止溅射镀膜对生物样品的损伤:在溅射镀膜时,非导电样品位于辉光放电的光柱之中,飞向样品(阳极)的电子流可使其带有负电荷,部分阳离子亦会被吸过来。这样,样品在交错飞来的阳离子和电子的冲击下,容易受到损伤。如果在镀膜之前,使样品稍具一定的导电性(如采用锇酸固定、单宁酸导电染色以及样品喷炭等方法),便可起到减少离子的冲击,防止样品损伤的作用。
3)离子镀膜法与真空镀膜法的比较
A.离子镀膜的颗粒细而均匀,以同一厚度相比,它所形成的“岛状结构”仅为真空镀膜法的1/10-1/5,因而有利于显示样品的微细结构。
B.离子溅射镀膜时,其金属粒子对凹凸不平、形貌复杂的样品,可以绕射进入,取得满意的镀膜效果,同时,其二次电子的发射量,也比真空镀膜法大。
C.离子镀膜时真空度低,不需要复杂的真空系统,具有体积小、造价低、操作简便等优点,并能减少镀膜时贵重金属的消耗。
D.离子镀膜机兼有离子净化、离子蚀刻等功能,可以一机多用。离子镀膜法虽具有上述优越之处,但它不具备真空喷镀时的投影、变型、喷镀炭膜及制作X线微区分析样品等功能。因此,真空喷镀仪是扫描电镜制作过程中仍需必备的仪器之一。
2.组织导电技术(非镀膜法)为了避免金属镀膜过程中真空和热辐射等因素给生物样品带来的损伤,人们又逐渐建立起不经金属镀膜处理的组织导电染色技术。
(1)组织导电技术的概念:组织导电技术是利用金属盐类,特别是重金属盐类化合物,可与生物组织内蛋白质、脂类和淀粉起化学结合作用,以达到样品表面离子化,增强样品导电率和减少充放电效应的目的。此外,组织导电技术还可以提高固定效果,防止组织变形损伤及增强样品对电子束轰击的耐受力。经过组织导电技术和常规脱水处理以后的样品,即使不再进行临界点干燥和金属镀膜,也可送扫描电镜观察,据文献报告,组织导电技术不仅适用于动物组织,而且也适用于植物扫描电镜样品制备。因此,这一技术被认为是一种经济方便、行之有效并很有发展前途的导电处理方法。
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